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一、鍍膜的常見分類

1.分類

1.1.鍍膜技術是表面技術的一類.

1.2.常見的分類: a.濕式鍍膜法: b.干式鍍膜法。

1.2.1.濕式鍍膜法可分電鍍法、化學鍍法，

1.2.2.干式鍍膜法常稱真空鍍膜法、氣相沉積法。可分為;物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition\PVD),化學氣相沉積( Chemical Vapor Deposition\CVD).

PVD一般可分為:真空蒸發鍍膜、真空濺射( Sputtering)鍍膜、真空離子鍍膜。按照不同的分類方法每一類又可以分出多種，不再一一細說， 重點說明一 下真空蒸鍍里的電阻加熱蒸鍍、電子束加熱蒸鍍、離子束輔助蒸鍍和濺射里的磁控濺射鍍膜。

2.歷史

氣相沉積技術是近30年來迅速發展的一門新技術，應用較早，但受真空技術和其它相關技術的限制，發展速度較慢。直到二戰時期， 法西斯德國將這技術服務于戰爭，制備各種軍用光學鏡片和反光鏡， 從而使這一技術在光學工業中得到迅速發展，并用漸形成了薄膜光學，成為光學的重要的分支。它不只是真空應用技術，而是綜合了物理、化學一系列的新技術的結果。

3.定義1

在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(或濺射)，使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或基體)上的方法稱為真空鍍膜法。真空蒸鍍簡稱蒸鍍， 是在真空條件下，用一定的方法加熱鍛膜材料(簡稱膜料)使之氣化，并沉積在工件表面形成固態薄膜。

以動量傳遞的方法，用荷能粒子轟擊材料表面，使其表面原子獲得足夠的能量而飛逸出來的過程稱為濺射。磁控濺射是一種高濺射速率、低基片加熱的濺射技術，稱為高速低溫濺射技術。

離子鍍膜技術簡稱離子鍍，離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物質或其反應產物沉積在基片上。

電阻加熱蒸鍍 是用絲狀或片狀的鎢、鉬、鉭高熔點金屬做成適當形狀的蒸發源，將膜料放在其中，接通電源，電阻直接加熱膜料而使其蒸發，或者把膜料放入AI203、BeO等坩堝中進行間接電阻加熱蒸發。

3.定義2

電子束加熱蒸鍍是將膜料放入水冷銅坩堝中，利用高能量密度的電子束加熱，使膜料熔觸氣化并凝結在基體表而成膜。

為了改善附著力，增加膜的致密性，鍍膜前，鍍膜過程中輔助離子束進行轟擊的鍍膜方法稱為離子束輔助蒸鍍.

4.應用

真空鍍膜技術屬于表面處理技術的一類，應用非常廣泛。

1.光學膜:用于CCD 、CMOS中的各種濾波片，高反鏡。

2.功能膜:用于制造電阻、電容，半導體薄膜，刀具鍍膜，車燈，車燈罩，激光，太陽能等:

3.裝飾膜:手機/家電裝飾鍍膜，汽車標牌，化妝品盒蓋，建筑裝飾玻璃、汽車玻璃，包裝袋。

5.現狀

由于真空鍍膜起步較晚，又受真空技術的阻制，前期發展較慢，屬于新的技術。目前，國外一些發達的國家應用較為廣泛。國內起步更晚，受技術的限制，應用范圍較少潛力較大，待進一步開發。

二、鍍膜的設備

1.常用的鍍膜設備(外形)

1.1.電鍍法、化學鍍法一般是以槽體流水線形式進行的，設備較為大型，昂貴。

1.2.箱式真空鍍膜機(立式)r中門、雙門。

1.3. 卷繞式真空鍍膜機(臥式)

1.40間歇式鍍膜機(立式) ;兩箱、三箱。

1.5.大型鍍膜流水線:根據客戶要求進行設計。

這里沒有涉及CVD鍍膜設備

2.常用的真空鍍膜機(鍍膜方式)

2.1.電阻蒸發鍍膜機(立式雙門、立式鐘罩、臥式滾筒、臥式卷繞)。

2.2.電子束蒸發鍍膜機(箱式單門，精密度高)。

2.3.離子束輔助蒸發鍍膜機(箱式單門，電子束，精密度高，致密性好)

2.4.磁控濺射鍍膜機(立式單雙門，臥式) .

3.各國的真空鍍膜機的現狀

3.1.德國、美國:歷史久，制造技術最強，穩定性最好，價格最高(LEYBOLD、VECOO)。

3.2.日本:制造技術強，穩定性好，價格偏高(新科隆，SHOWA、光馳)。

3.3.韓國、臺灣:制造技術較強，穩定性一般， 價格略高(因泰卡、韓一、韓國真空、龍翩) 。

3.4.中國:制造技術逐漸加強，制造廠家較多，穩定性不好，價格便宜，鍍膜的領域正在擴大，鍍膜家快速增加，主要應用于飾品、工具、光學、汽車(南光、北儀、蘭州真密、上海曙光、沈陽百樂、廣東三束、中環)。

4.真空蒸鍍鍍膜機的相關參數和結構1

4.1.真空蒸鍍鍍膜機的相關參數

4.1.1.真空室尺寸

4.1.2.最高加熱溫度

4.1.3.高，合肥低真空泵抽速

4.1.4.膜厚控制精度

4.1.5.蒸發器的參數

4.1.6.離子源的參數

4 17.連續鍍層和時間

4.1.8.充氣系統的參數

4.1.9.深冷的參數

4.1.10.操作系統、軟件

另外:冷卻水、壓縮空氣，電量

4.真空蒸鍍鍍膜機的相關參數和結構2

4.2.真空鍍膜機的結構(單箱式)主要的結構是:槍、泵、規、室

4.2.1.真空室

4.2.2.工件架

4.2.3.加熱器

4.2.4.高、低真空泵

4.2.5.真空計(規)

4.2.6. 膜厚控制儀

4.2.7.燕發源(磁控濺射:靶材:蒸鍍:膜料)

4.2.8.離子源

4.2.9.氣體流量計

4.2.10.深冷

4.2.11.防污板

4.2.12.操作系統(軟件）

4.2.13.各連接閥門

輔助：冰水機、過濾器、空壓機、 穩壓電源

三、真空鍍膜的工藝

1工藝參數

1.1.真空度

1.2.溫度

1.3.蒸發速率

1.4.膜厚(光控、晶控)

1.5.充氣量

1.6. 工件架轉速

1.7.蒸發能量

1.8.冷卻水溫、水壓

1.9.料的純度、填料高度

1.10.離子源相關參數(時間，能量)

1.11.腔內潔凈度

1.12.均勻性

1.13.重復性(穩定性)

1.14.膜系層數、穩定性

2.塑料件真空鍍膜工藝流程

烘烤——底漆——裝件——抽真空——預清洗——鍍膜——充氣——開門下件

3.鍍膜制品的品質因素

根據不同的產品不同的要求具體品質要求也不樣，但基本的品質要求如下:

3.1.外觀(色澤、麻點、臟污、刮痕)

3.2.附著力

3.3.性能測試(拉膜、水煮、摩擦、耐腐蝕)